TSMC بهطور رسمی کارخانه تولید تراشه خود را در آریزونا معرفی کرد + ویدیو
شرکت TSMC یک ویدیوی تازه از کارخانه Fab 21 خود که در نزدیکی شهر فینیکس ایالت آریزونا واقع شده، منتشر کرده است. این ویدیو حاکی از وجود صدها ابزار نوین است که با دقت و نظم بسیار در حال ساخت تراشههایی برای مشتریان آمریکایی TSMC میباشند.
طبق گزارش Tom’s Hardware، یکی از حیاتیترین دستگاههایی که در این کارخانه وجود دارد، بدون شک ماشینهای لیتوگرافی فرابنفش شدید (EUV) از نوع Twinscan NXE تولید شرکت هلندی ASML است که در فرایند تولید محصولاتی مانند پردازندههای Blackwell B300 انویدیا نقشآفرینی میکند.
شرکت TSMC بخشی از سفارشات مشتریان آمریکایی را در کارخانه آریزونا تولید میکند
این ویدیو به ابعاد اولیه کارخانه Fab 21 شرکت TSMC در نزدیکی آریزونا میپردازد. در این مکان، تولید تراشهها با روشهای ساخت N4 و N5 (کلاس ۴ و ۵ نانومتر) در حال گسترش میباشد.
در صحنه اولیه ویدیو، سیستم خودکار انتقال مواد (AMHS) متعلق به TSMC به تصویر کشیده میشود؛ این سیستم از ریلهای هوایی تشکیل شده و به جابهجایی پادهای FOUP که حامل ویفرهای با قطر ۳۰۰ میلیمتر هستند، میپردازد. در ویدیو، صدها FOUP در حال حرکت مشاهده میشوند که این امر نشاندهنده مدیریت دقیق و لجستیک منظم انتقال ویفرها در سراسر کارخانه است.
علاوه بر این، اسکنرهای EUV ساخت ASML (احتمالاً مدل Twinscan NXE:3600D) به تصویر درآمدهاند که در نمایی با حال و هوای سینمایی مشابه به فیلم Oppenheimer از کریستوفر نولان، الگوها را برروی ویفرها حکاکی میکنند.
فناوری لیتوگرافی EUV از نوری با طولموج ۱۳٫۵ نانومتر استفاده میکند، که این نور ناشی از پلاسمای ایجاد شده از قطرات قلع (LPP) و توسط لیزر CO₂ تولید میشود. در ویدیو، این فرآیند بهوسیله درخششهای بنفش رنگ پلاسما در داخل محفظه نمایان شده است. سپس تابش LPP به ویفر اصابت کرده و با یک بار تابش، الگوهای بسیار دقیقی با وضوح حداکثر حدود ۱۳ نانومتر برای گرههای کنونی به وجود میآورد.
لازم به ذکر است که مراحل تولید ویفرها و پلیکِلها (Pellicles) در این ویدیو به نمایش گذاشته نشدهاند. این مراحل توسط TSMC بهمنظور بهبود عملکرد بهصورت ویژه سفارشیسازی شده است.
